China kembangkan mesin chemical mechanical polishing

Menurut Harian Rakyat,  Mesin chemical mechanical polishing pertama12 inci yang dikembangkan oleh Universitas Tsinghua disampaikan dan mulai digunakan baru-baru ini, yang menandai langkah maju dalam lokalisasi peralatan high-end sirkuit terpadu.

Mesin polishing mekanik kimia menggunakan efek kimia dan mekanik untuk memoles wafer untuk mendapatkan permukaan halus dalam  tingkat-nano, yang merupakan salah satu dari lima teknologi kunci dalam proses fabrikasi sirkuit terpadu.

Indikator teknis utama mesin polishing mekanik buatan China telah mencapai atau melampaui tingkat puncak dunia.